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反射式光學膜厚儀

反射式光學膜厚儀是一款精準又好用的薄膜厚度測量設備。它能測低至20納米的超薄薄膜,測量誤差小于1納米,最快每秒可測100次,重復測量精度高達0.05納米。它采用雙光源組合,覆蓋紫外到紅外全光譜,抗干擾能力強,在振動或復雜環境下也能穩定工作。
產品品牌: 霍爾德?電子
價格: 我要詢價
廠商性質: 生產廠家
產品時間: 2026-03-13

產品概述

反射式光學膜厚儀測試原理

反射膜厚儀基于白光干涉原理工作,光源發出的寬帶光入射至待測薄膜表面后,經薄膜上下表面反射形成的兩束反射光會因光程差產生干涉,干涉信號中包含薄膜厚度、光學常數等關鍵信息,設備通過探頭采集干涉后的反射光譜,對特定波段范圍內的光譜進行模型擬合后,即可反演解析出薄膜的厚度、光學常數及粗糙度等參數,整個系統由高強度組合光源提供寬光譜入射光,經光學系統傳輸至樣品,反射光返回后由高速光譜模塊采集信號,最終通過上位機軟件完成數據處理與結果輸出。


產品特點

1. 精準測量:支持20nm超薄膜厚檢測,準確度±1nm、重復精度0.05nm,滿足精密檢測需求;

2. 高速采樣:采樣速度100Hz,適配產線快速檢測,提升測量效率;

3. 寬光譜覆蓋:采用氘鹵組合光源,光譜覆蓋紫外至近紅外,可解析單層/多層膜厚;

4. 強抗干擾性:高靈敏度元器件搭配抗干擾光學系統+多參數反演算法,復雜環境下測量穩定;

5. 靈活易適配:支持自定義膜結構測量,設備小巧易安裝,配套軟件及二次開發包,適配實驗室/產線多場景。


反射式光學膜厚儀技術參數

型號HD-FT50UVHD-FT50NIR
建議工作距離非聚焦光束,安裝距離5至10mm安裝側面出光附加鏡時:34.5mm±2mm;
軸向出光時:55mm±2mm;
測量角度±10°±5°
光斑類型彌散光斑;在10mm安裝距離時,光斑直徑約為4mm;聚焦光斑;約200μm
探頭外徑*長度Φ6.35*3200mm3Φ20*73mm
探頭重量190g108g(探頭)、49g(附加鏡)
光源類型氘鹵光源鹵素光源
波長范圍190-1100nm400-1100nm;1000-1700nm
測厚范圍約20nm~50μm(折射率1.5時)約50nm~50μm(折射率1.5時)
適配探頭UV-VISVIS-NIR軸向;
VIS-NIR徑向;(標配其一)
可連探頭數量1
探頭防護等級IP40
重復精度0.05nm
準確度<±1nm或±0.3%(取較大值)
采樣頻率Max.100Hz(視求解參數復雜度而定)
測控軟件專用上位機軟件
電源電壓220V±20V50HzAC/
功率50W
工作溫度-10至+40℃
相對濕度20%至85%RH(無冷凝)
控制器重量約5000g


反射式光學膜厚儀






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