反射式光學(xué)膜厚儀

Name: 反射式光學(xué)膜厚儀HD-FT50UV
Brand: 霍爾德?電子
Availability: InStock

反射式光學(xué)膜厚儀是一款精準(zhǔn)又好用的薄膜厚度測量設(shè)備。它能測低至20納米的超薄薄膜，測量誤差小于1納米，最快每秒可測100次，重復(fù)測量精度高達(dá)0.05納米。它采用雙光源組合，覆蓋紫外到紅外全光譜，抗干擾能力強(qiáng)，在振動(dòng)或復(fù)雜環(huán)境下也能穩(wěn)定工作。

產(chǎn)品品牌：霍爾德?電子

價(jià)格：我要詢價(jià)

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

產(chǎn)品時(shí)間： 2026-03-13

在線留言在線交流

產(chǎn)品概述

反射式光學(xué)膜厚儀測試原理

反射膜厚儀基于白光干涉原理工作，光源發(fā)出的寬帶光入射至待測薄膜表面后，經(jīng)薄膜上下表面反射形成的兩束反射光會(huì)因光程差產(chǎn)生干涉，干涉信號(hào)中包含薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)等關(guān)鍵信息，設(shè)備通過探頭采集干涉后的反射光譜，對特定波段范圍內(nèi)的光譜進(jìn)行模型擬合后，即可反演解析出薄膜的厚度、光學(xué)常數(shù)及粗糙度等參數(shù)，整個(gè)系統(tǒng)由高強(qiáng)度組合光源提供寬光譜入射光，經(jīng)光學(xué)系統(tǒng)傳輸至樣品，反射光返回后由高速光譜模塊采集信號(hào)，最終通過上位機(jī)軟件完成數(shù)據(jù)處理與結(jié)果輸出。

產(chǎn)品特點(diǎn)

1. 精準(zhǔn)測量：支持20nm超薄膜厚檢測，準(zhǔn)確度±1nm、重復(fù)精度0.05nm，滿足精密檢測需求；

2. 高速采樣：采樣速度100Hz，適配產(chǎn)線快速檢測，提升測量效率；

3. 寬光譜覆蓋：采用氘鹵組合光源，光譜覆蓋紫外至近紅外，可解析單層/多層膜厚；

4. 強(qiáng)抗干擾性：高靈敏度元器件搭配抗干擾光學(xué)系統(tǒng)+多參數(shù)反演算法，復(fù)雜環(huán)境下測量穩(wěn)定；

5. 靈活易適配：支持自定義膜結(jié)構(gòu)測量，設(shè)備小巧易安裝，配套軟件及二次開發(fā)包，適配實(shí)驗(yàn)室/產(chǎn)線多場景。

反射式光學(xué)膜厚儀技術(shù)參數(shù)

型號(hào)	HD-FT50UV	HD-FT50NIR
建議工作距離	非聚焦光束，安裝距離5至10mm	安裝側(cè)面出光附加鏡時(shí)：34.5mm±2mm；軸向出光時(shí)：55mm±2mm；
測量角度	±10°	±5°
光斑類型	彌散光斑；在10mm安裝距離時(shí)，光斑直徑約為4mm；	聚焦光斑；約200μm
探頭外徑*長度	Φ6.35*3200mm3	Φ20*73mm
探頭重量	190g	108g（探頭）、49g（附加鏡）
光源類型	氘鹵光源	鹵素光源
波長范圍	190-1100nm	400-1100nm；1000-1700nm
測厚范圍	約20nm~50μm（折射率1.5時(shí)）	約50nm~50μm（折射率1.5時(shí)）
適配探頭	UV-VIS	VIS-NIR軸向； VIS-NIR徑向；（標(biāo)配其一）
可連探頭數(shù)量	1
探頭防護(hù)等級(jí)	IP40
重復(fù)精度	0.05nm
準(zhǔn)確度	<±1nm或±0.3%（取較大值）
采樣頻率	Max.100Hz（視求解參數(shù)復(fù)雜度而定）
測控軟件	專用上位機(jī)軟件
電源電壓	220V±20V50HzAC/
功率	50W
工作溫度	-10至+40℃
相對濕度	20%至85%RH（無冷凝）
控制器重量	約5000g